Le logiciel Maschine de Native Instruments passe à la version 2.10

Voici les nouveau­tés appor­tées au logi­ciel Maschine dans cette version 2.10 :

• Possi­bi­lité de défi­nir la posi­tion de départ de chaque pattern en déplaçant le marqueur de posi­tion
• Allon­ge­ment auto­ma­tique de la durée des patterns, vous n’avez donc plus besoin de la défi­nir à l’avance. Le silence à la fin du pattern sera auto­ma­tique­ment ramené à la mesure la plus proche, la quan­ti­fi­ca­tion pouvant se faire depuis la grid. Après l’en­re­gis­tre­ment, il sera aussi possible de défi­nir la posi­tion de lance­ment pattern.
• La posi­tion de lecture du pattern est indiquée par les LED du ruban tactile sur les Maschine MK3 et Maschine Mikro MK3, lorsque le ruban n’est pas employé à une autre fonc­tion
• Diverses correc­tions

La liste des chan­ge­ments est en ligne sur www.native-instru­ments.com,  la mise à jour est dispo­nible dans Native Access.